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半導體及光伏制程過濾濾芯

F8-F9級中效過濾器

過濾器廠家 安全可靠 長效穩(wěn)定 支持定制
F8-F9級中效過濾器可為直接接觸晶圓或電池片的工藝腔室提供潔凈的冷卻空氣或吹掃氣體,有效防止設備內部運動部件產生的微粒污染制程。依據(jù)EN 779/ISO 16890標準,其對≥0.4μm微粒的過濾效率分別達到≥75% (F8) 和≥85% (F9)。

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資質齊全

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描述:

F8-F9級中效過濾器可為直接接觸晶圓或電池片的工藝腔室提供潔凈的冷卻空氣或吹掃氣體,有效防止設備內部運動部件產生的微粒污染制程。依據(jù)EN 779/ISO 16890標準,其對≥0.4μm微粒的過濾效率分別達到≥75% (F8) 和≥85% (F9)。

核心技術優(yōu)勢:

緊湊化、模塊化設計:專為設備內部有限空間優(yōu)化,厚度通常僅25-50mm,支持FFU或設備進氣口標準卡槽安裝。

低阻力與高容塵量:相比HVAC用同規(guī)格產品,我們通過優(yōu)化濾紙折高和間距,在確保F9級效率的同時,將設備風機能耗降低。

耐化學腐蝕與低釋氣:濾料及密封膠均采用低VOC材料,耐受工藝環(huán)境中的微量酸堿氣體,避免二次污染風險。

可選全金屬耐溫結構:對PECVD等高溫端設備,可提供全不銹鋼框架+金屬波紋/鋁箔分隔板結構,耐受120-150℃連續(xù)運行。

工況適配對照表:

設備類型設備功能推薦等級關鍵要求
光刻機投影物鏡物鏡內恒溫恒濕氣體吹掃F9超低阻力、高面風速均勻性
涂膠顯影設備 (Track)晶圓片盒超凈裝置 (SMIF Pod) 吹掃F8低金屬離子析出
等離子刻蝕機反應腔室冷卻風道進氣F8耐等離子氣體腐蝕
PECVD預熱模塊腔室吹掃F9全不銹鋼材質,耐溫≥120℃
擴散/氧化爐爐口區(qū)域潔凈風幕F8緊湊型卡槽式設計


應用領域:

半導體前道設備

半導體光刻機

半導體真空泵與廢氣處理系統(tǒng)

光伏電池制造設備

PECVD

光伏電池燒結爐

案例與數(shù)據(jù)佐證:

為某光刻機制造商的物鏡吹掃系統(tǒng)提供定制化F9級緊湊過濾器,優(yōu)化了濾紙折型,將容塵量提升了40%;更換周期從3-4個月延長至10個月,降低了設備停機頻率。

FAQ區(qū)塊:

問:設備用的F9過濾器能代替HEPA(H13)嗎?

答:不能。設備用F9過濾器主要用于清潔度要求ISO 7-8級的場景,如冷卻或吹掃;HEPA(H13)用于要求顆粒數(shù)極少的晶圓傳送或化學品過濾。需視設備顆??刂浦笜硕?。

 

問:如何驗證設備過濾器的性能?

答:可采用掃描檢漏法現(xiàn)場驗證安裝后的密封性,也可通過加裝在線粒子計數(shù)器,實時監(jiān)控下游氣體潔凈度。


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