描述：
H13/H14級空氣過濾器（HEPA）為光刻機(jī)、電子束檢測機(jī)、晶圓傳送盒（FOUP）等設(shè)備關(guān)鍵模塊提供ISO 3-5級（1-100級）局部超凈環(huán)境，確保傳送或加工的晶圓免受大氣顆粒物污染。依據(jù)EN 1822標(biāo)準(zhǔn)，對MPPS (易穿透粒徑) 的過濾效率達(dá)到≥99.95% (H13)或≥99.995% (H14)。

核心技術(shù)優(yōu)勢：

效率超高與超低阻力：采用PTFE濾料，在H14級效率下，初阻力可比傳統(tǒng)玻纖降低30%以上，直接延長設(shè)備風(fēng)機(jī)的壽命并節(jié)約能耗。

超潔凈制造，極低金屬離子：所有組件在百級潔凈室內(nèi)組裝，并通過DI水沖洗工藝。Na、K、Fe等關(guān)鍵金屬離子析出量≤0.1ppb，滿足12英寸晶圓廠嚴(yán)苛的要求。

一體式液槽密封框架可選：提供配套的精密機(jī)加工鋁合金密封框架，可直接集成于設(shè)備設(shè)計中，保證零泄漏安裝。

工況適配對照表：

應(yīng)用領(lǐng)域：

半導(dǎo)體設(shè)備光刻過程

半導(dǎo)體設(shè)備電子束檢測

光伏設(shè)備電池（HJT/TOPCon）PECVD

案例與數(shù)據(jù)佐證

為某涂膠顯影設(shè)備廠商定制風(fēng)機(jī)過濾單元，采用H14級PTFE濾料和精密機(jī)加工的液槽密封框架。實測設(shè)備環(huán)境≥0.1μm顆粒數(shù)＜10顆/立方米，遠(yuǎn)優(yōu)于設(shè)計指標(biāo)；顯著降低了因污染導(dǎo)致的設(shè)備調(diào)試和客戶現(xiàn)場維修成本。

FAQ區(qū)塊：

問：何時需要采用液槽密封？

答：當(dāng)設(shè)備環(huán)境對≥0.1μm顆?？刂埔髽O嚴(yán)（如光刻、檢測）或安裝空間狹小、機(jī)械壓緊可靠性不足時，液槽密封能提供可靠的零泄漏保證。